Mașină fizică de depunere în vapori
Tehnologia depunerii fizice în vapori (Physical Vapor Deposition, PVD) se referă la utilizarea metodelor fizice în condiții de vid, sursa materialului - suprafața solidă sau lichidă este vaporizată în atomi gazoși, molecule sau parțial ionizată în ioni și trecută prin gaz de joasă presiune. (sau plasma). ), tehnică de depunere a unei pelicule subțiri cu funcție specială pe suprafața substratului.
Mașină fizică de depunere de vapori
Tehnologia depunerii fizice în vapori (Physical Vapor Deposition, PVD) se referă la utilizarea metodelor fizice în condiții de vid, sursa materialului - suprafața solidă sau lichidă este vaporizată în atomi gazoși, molecule sau parțial ionizată în ioni și trecută prin gaz de joasă presiune ( sau plasma). ), tehnică de depunere a unei pelicule subțiri cu funcție specială pe suprafața substratului. Principalele metode de depunere fizică a vaporilor sunt evaporarea în vid, acoperirea prin pulverizare, acoperirea cu plasmă cu arc, acoperirea ionică și epitaxia fasciculului molecular. Până în prezent, tehnologia de depunere fizică prin vapori nu poate depune numai pelicule metalice, pelicule de aliaj, ci și compuși, ceramică, semiconductori, filme polimerice etc. Acest articol prezintă trei metode comune de depunere a peliculelor subțiri, inclusiv: evaporarea în vid, pulverizarea magnetronului și arcul electric. placare/depunere ionică, toate aparținând fazei fizice de vapori. depunere (PVD).
Aplicație
Compania noastră
Tag-uri populare: mașină de depunere fizică de vapori, China, furnizori, producători, fabrică, personalizat, cumpărare, preț, cotație
Trimite anchetă
