Mașină de acoperire prin rotire
Există multe tipuri de pulverizare cu magnetron, care pot fi împărțite în pulverizare cu magnetron DC, pulverizare cu magnetron cu frecvență radio și pulverizare cu magnetron cu frecvență intermediară în funcție de sursa de energie utilizată.
Pulverizarea cu frecvență intermediară este, de asemenea, un fel de pulverizare cu magnetron.
Există multe tipuri de pulverizare cu magnetron, care pot fi împărțite în pulverizare cu magnetron DC, pulverizare cu magnetron cu frecvență radio și pulverizare cu magnetron cu frecvență intermediară, în funcție de sursa de alimentare utilizată. Sursa de alimentare utilizată în pulverizarea cu magnetron DC este o sursă de alimentare DC de înaltă tensiune, de obicei 300-1000 V, care se caracterizează prin rata de pulverizare rapidă, cost redus și întreținere ieftină în perioada ulterioară. Cu toate acestea, numai țintele metalice pot fi pulverizate. Dacă ținta este un izolator, pe măsură ce pulverizarea progresează, ținta va acumula o cantitate mare de sarcină, ceea ce duce la incapacitatea pulverizării de a continua. Prin urmare, pulverizarea cu magnetron DC este de obicei folosită pentru ținte metalice. Datorită costului scăzut și structurii sale simple, este utilizat pe scară largă în industrie. Frecvența sursei de alimentare RF utilizată în pulverizarea cu magnetron RF este de obicei de 13,56 MHz, ceea ce poate rezolva problema că pulverizarea cu magnetron DC nu poate pulveriza ținte izolante. Caracteristicile pulverizării prin magnetron RF sunt: atât țintele izolante, cât și țintele metalice pot fi pulverizate, iar aderența dintre film și substrat este puternică. Cu toate acestea, din cauza structurii și dispozitivului complexe, a prețului ridicat al sursei de alimentare RF, a costurilor ridicate de întreținere, a radiațiilor către corpul uman și a necesității unei rețele externe de potrivire, nu este potrivit pentru producția industrială. Pulverizarea cu magnetron cu frecvență intermediară este adesea folosită pentru pulverizarea reactivă pentru a pregăti pelicule compuse metalice. Pe lângă argon, în cavitate se adaugă o cantitate mică de gaze reactive, cum ar fi azotul, oxigenul etc., pentru a depune moleculele acestor gaze reactive cu atomii materialului țintă. pe substrat pentru a forma un film compus metalic. Deoarece pulverizarea cu magnetron DC este utilizată pe scară largă în industrie, masa de pulverizare cu magnetron include un sistem de vid, un sistem de acoperire prin pulverizare, un gaz și un sistem de control.
Aplicație
Parametru
Compania noastră
Tag-uri populare: mașină de acoperire prin spin, China, furnizori, producători, fabrică, personalizat, cumpărare, preț, cotație
Trimite anchetă
